器件制造
Advanced Epi 提供用于原型設計、小批量生產或提取外延層電特性的器件制造服務。各種內部工藝使我們能夠快速設計和制造器件結構。借助我們的無掩模激光刻錄機，我們可以將您的數字掩模文件直接圖案化到芯片或晶圓上，或者如果您已經有了定義的掩模設計，我們可以使用我們的掩模對準器對整個晶圓進行圖案化。

器件制造技術
光刻 - 激光刻錄機、UV 掩模對準器
金屬沉積 - 電子束蒸發器、濺射
蝕刻 - 濕法蝕刻、RIE-ICP
氧化 - PE-CVD、TEOS、熱
我們的大多數工藝都能夠處理芯片、100 毫米和 150 毫米晶圓直徑。

電氣表征技術
內部表征技術使我們能夠從您的設備中提取重要的電氣數據作為完整的解決方案。
IV（77K 至 800K）
CV（77K 至 300K）
霍爾效應（15K 至 300K）

網址：https://advancedepi.com/